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美国无限期豁免后三星将升级西安工厂NAND芯片工艺至236层科技行业资讯中的人物场景

10月16日,据此前报道,三星和SK海力士获得了美国的无限期豁免,不需要特别许可即可为中国工厂安装含有美国技术的制造设备。这对三星来说是一条好消息。取得豁免后,三星确实采取了相应措施。据Business Korea今天报道,三星电子决定将其西安NAND闪存工厂升级至236层NAND工艺。

报道显示,三星已开始采购最新半导体设备。新设备预计2023年底交付,并于2024年在西安工厂陆续引进能生产236层(第8代)NAND的设备。

升级西安工厂原因主要有两个:首先是为了在目前尚未复苏的NAND芯片市场中保持全球领先地位。从去年年底开始的半导体市场疲软影响了三星NAND业务,即便是在4月采取减产措施后也没有明显改变。因此,三星选择升级工艺以确保产品竞争力和价格优势,比起第6代NAND技术,其第8代新技术晶圆投入减少30%左右,更能平衡市场供需。此外,由于降低开工率至20%,包括减产措施在内,也促使了这一决定。

其次,是因为获得美国无限期豁免。在这些背景下,作为其唯一海外存储半导体生产基地之一、投资108.7亿美元建造并于2017年启用的大型第一、二号生产线,以及约占总产量40%的地位,使得这次升级生产线自然而然的事情发生了。这不仅是对长期投资的一种回报,也是对国际政策支持的一种响应。

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